華為新款手機突破美國封鎖，自家研製出5G晶片，此當然震撼世界，但最令世界震驚的是，華為竟然在沒有極紫外光(EUV)光刻機的情況下，仍研製出7奈米晶片，外界對此一大謎團甚感困惑，早前有業界人士透露，或許中芯是以現有的深紫外光(DUV)光刻機，以多重曝光方式做出7奈米晶片，當然這是一個影響良率及成本的昂貴技術，不過這是封鎖困局之中，唯一可以做的方法。

若果業界猜測是真的話，中芯的思維確實相當具創造性。而華為這一次勝仗，讓被美國要求聯手制裁中國的荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)的CEO溫寧克(Peter Wennink)亦感到嘆服，他日前在當地電視節目上直言：「西方向中國實施技術封鎖可能徒勞，因為中國會提出我們還沒想到的解決方案」。

故他更直指：「完全孤立中國是沒有希望的。如果我們不分享技術，他們就會自己去研究。」他更強調，美國這樣做，只會逼使中國變得非常創新。

可惜無論溫寧克說出幾多次真話，美國就是一個學不精的小人，封安卓系統，鴻蒙系統隨即出現；封晶片，國產晶片隨即出現，如今封光刻機？美國又助攻了，相信不久的將來，中國會有自己的光刻機！

華為早於2022年的時候，就公佈了一項有關「光刻機」技術的專利，據華為專利《反射鏡、光刻裝置及其控制方法》顯示，其使用「新極紫外光(EUV)光刻新技術」，該技術能解決因相干光形成固定的干涉圖樣，而無法產出勻光的問題，同時加強改良極紫外光光刻裝置，更好地達勻光目的。另外，除了華為外，清華大學、中科院亦於2022年開始進行攻克「光刻機」技術的研發，清華大學更掌握了用於EUV光刻機的新光源，而中科院亦掌握了物鏡系統技術。

不過，由於光刻機的內部零組件超過10萬多個之多，故要製造出光刻機仍需要一段時間，不過如今華為與各方都掌握了技術，有了開頭相信製造出光刻機，只是時間問題而已。

（文章為作者的個人意見，並不代表《幫港出聲》立場。）

原圖：asml官方圖片

 

 

 

 

 

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